文献
J-GLOBAL ID:201602241545103539
整理番号:16A1108226
EUV高NAスキャナと8nm以下の分解能でのマスクの最適化
EUV High-NA scanner and mask optimization for sub 8nm resolution
著者 (9件):
VAN SCHOOT Jan
(ASML, Veldhoven, NLD)
,
VAN INGEN SCHENAU Koen
(ASML, Veldhoven, NLD)
,
BOTTIGLIERI Gerardo
(ASML, Veldhoven, NLD)
,
TROOST Kars
(ASML, Veldhoven, NLD)
,
ZIMMERMAN John
(ASML, CT, USA)
,
MIGURA Sascha
(Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen, DEU)
,
KNEER Bernhard
(Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen, DEU)
,
NEUMANN Jens Timo
(Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen, DEU)
,
KAISER Winfried
(Carl Zeiss SMT GmbH, Oberkochen, DEU)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
9776
ページ:
97761I.1-97761I.15
発行年:
2016年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)