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文献
J-GLOBAL ID：201602243771042907
整理番号：16A1234750
直流電着によって調製したナノ双晶CUの微細構造に及ぼす添加剤濃度の影響を研究した。【JST・京大機械翻訳】
EFFECT OF ELECTROLYTE ADDITIVE CONCENTRATION ON MICROSTRUCTURE OF DIRECT-CURRENT ELECTRODEPOSITED NANOTWINNED Cu
Jin Shuai
(Shenyang National Laboratory for Materials Science, Institute of Metal Research, Chinese Academy of Sciences)
,
Cheng Zhao
(Shenyang National Laboratory for Materials Science, Institute of Metal Research, Chinese Academy of Sciences)
,
Pan Qingsong
(Shenyang National Laboratory for Materials Science, Institute of Metal Research, Chinese Academy of Sciences)
,
Lu Lei
(Shenyang National Laboratory for Materials Science, Institute of Metal Research, Chinese Academy of Sciences)
資料名：
Jinshu Xuebao
(Jinshu Xuebao)
巻： 52 号： 8 ページ： 973-979 発行年： 2016年
JST資料番号： B0626A ISSN： 0412-1961 CODEN： CHSPA4 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 中国 (CHN) 言語： 中国語 (ZH)
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