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文献
J-GLOBAL ID:201602246539002360   整理番号:16A0539193

TiO2アナターゼ[101]表面でのヒ素(III)およびヒ素(IV)の吸着に及ぼすpHの影響

The effect of pH on the adsorption of arsenic(III) and arsenic(V) at the TiO2 anatase [101] surface
著者 (8件):
Wei Zhigang
(School of Chemical Engineering and Light Industry, Guangdong University of Technology, Guangzhou 510006, PR China)
Liang Kai
(School of Chemical Engineering and Light Industry, Guangdong University of Technology, Guangzhou 510006, PR China)
Wu Yang
(College of Chemistry, Liaoning University, Shenyang 110036, PR China)
Zou Yandi
(School of Chemical Engineering and Light Industry, Guangdong University of Technology, Guangzhou 510006, PR China)
Zuo Junhui
(School of Chemical Engineering and Light Industry, Guangdong University of Technology, Guangzhou 510006, PR China)
Arriagada Diego Cortes
(Laboratorio de Quimica Teorica-Computacional, Departamento de Quimica-Fisica, Pontificia Universidad Catolica de Chile, Chile)
Pan Zhanchang
(School of Chemical Engineering and Light Industry, Guangdong University of Technology, Guangzhou 510006, PR China)
Hu Guanghui
(School of Chemical Engineering and Light Industry, Guangdong University of Technology, Guangzhou 510006, PR China)

資料名:
Journal of Colloid and Interface Science  (Journal of Colloid and Interface Science)

巻: 462  ページ: 252-259  発行年: 2016年01月15日 
JST資料番号: C0279A  ISSN: 0021-9797  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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