文献
J-GLOBAL ID:201602250486517016
整理番号:16A0636987
射出成形はんだ(IMS)技術のためのマスク材料としてのフォトレジストの開発状況【Powered by NICT】
Development status of photoresist as mask material for Injection Molded Solder (IMS) technique
著者 (11件):
Hasegawa Koichi
(JSR Corp., Yokkaichi, Japan)
,
Mukawa Jun
(JSR Corp., Yokkaichi, Japan)
,
Takahashi Seiichirou
(JSR Corp., Yokkaichi, Japan)
,
Kobata Chihiro
(JSR Corp., Yokkaichi, Japan)
,
Ohkita Kenzo
(JSR Corp., Yokkaichi, Japan)
,
Kusumoto Shiro
(JSR Corp., Yokkaichi, Japan)
,
Aoki Toyohiro
(IBM Japan, Ltd., Kawasaki, Japan)
,
Nakamura Eiji
(IBM Japan, Ltd., Kawasaki, Japan)
,
Hisada Takashi
(IBM Japan, Ltd., Kawasaki, Japan)
,
Mori Hiroyuki
(IBM Japan, Ltd., Kawasaki, Japan)
,
Orii Yasumitsu
(IBM Japan, Ltd., Kawasaki, Japan)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2016
号:
Pan Pacific
ページ:
1-6
発行年:
2016年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)