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文献
J-GLOBAL ID：201602251602997848
整理番号：16A1337336
ヘリウムフリー動作のマルチパターニング液浸リソグラフィー用の次世代ArFエキシマレーザ
The next generation ArF Excimer Laser for multiple-patterning immersion lithography with helium free operation
MIYAMOTO Hirotaka
(Gigaphoton Inc., Tochigi, JPN)
,
KUMAZAKI Takahito
(Gigaphoton Inc., Tochigi, JPN)
,
TSUSHIMA Hiroaki
(Gigaphoton Inc., Tochigi, JPN)
,
KUROSU Akihiko
(Gigaphoton Inc., Tochigi, JPN)
,
OHTA Takeshi
(Gigaphoton Inc., Tochigi, JPN)
,
MATSUNAGA Takashi
(Gigaphoton Inc., Tochigi, JPN)
,
MIZOGUCHI Hakaru
(Gigaphoton Inc., Tochigi, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 9780 ページ： 97801I.1-97801I.6 発行年： 2016年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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