文献
J-GLOBAL ID:201602257063480140
整理番号:16A0449225
Sn系IV族半導体混晶薄膜の成長と物性評価
Growth and characterization of Sn-containing group-IV semiconductor thin film
著者 (9件):
志村洋介
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
志村洋介
(静岡大 大学院総合科学技術研究科)
,
竹内和歌奈
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
坂下満男
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
黒澤昌志
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
黒澤昌志
(名古屋大 未来材料システム研)
,
中塚理
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
財満鎭明
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
財満鎭明
(名古屋大 未来材料システム研)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
116
号:
2(OME2016 1-17)
ページ:
23-26
発行年:
2016年04月01日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
解説
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)