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文献
J-GLOBAL ID:201602259719608576   整理番号:16A0952774

紫外照射下でのAmorphous-Indium-Gallium-Zinc-オキシド薄膜トランジスタの電気的不安定性【Powered by NICT】

Electrical Instability of Amorphous-Indium-Gallium-Zinc-Oxide Thin-Film Transistors under Ultraviolet Illumination
著者 (7件):
Tang Lanfeng
(School of Electronic Science and Engineering, Nanjing University)
Lu Hai
(School of Electronic Science and Engineering, Nanjing University)
Ren Fangfang
(School of Electronic Science and Engineering, Nanjing University)
Zhou Dong
(School of Electronic Science and Engineering, Nanjing University)
Zhang Rong
(School of Electronic Science and Engineering, Nanjing University)
Zheng Youdou
(School of Electronic Science and Engineering, Nanjing University)
Huang Xiaoming
(Peter Grunberg Research Center, Nanjing University of Posts and Telecommunications)

資料名:
Chinese Physics Letters  (Chinese Physics Letters)

巻: 33  号:ページ: 038502-1-038502-4  発行年: 2016年 
JST資料番号: W1191A  ISSN: 0256-307X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 英語 (EN)
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