文献
J-GLOBAL ID:201602260296644513
整理番号:16A0585468
300mmウエハプラットフォーム上のシリコンフォトニクス研究開発と製造【Powered by NICT】
Silicon Photonics R&D and Manufacturing on 300-mm Wafer Platform
著者 (14件):
Boeuf Frederic
(STMicroelectron., Crolles, France)
,
Cremer Sebastien
(STMicroelectron., Crolles, France)
,
Temporiti Enrico
(STMicroelectron., Pavia, Italy)
,
Fere Massimo
(STMicroelectron. SRL, Agrate, Italy)
,
Shaw Mark
(STMicroelectron. SRL, Agrate, Italy)
,
Baudot Charles
(STMicroelectron., Crolles, France)
,
Vulliet Nathalie
(STMicroelectron., Crolles, France)
,
Pinguet Thierry
(Luxtera, Carlsbad, CA, USA)
,
Mekis Attila
(Luxtera, Carlsbad, CA, USA)
,
Masini Gianlorenzo
(Luxtera, Carlsbad, CA, USA)
,
Petiton Herve
(STMicroelectron., Crolles, France)
,
Le Maitre Patrick
(STMicroelectron., Crolles, France)
,
Traldi Matteo
(STMicroelectron. SRL, Agrate, Italy)
,
Maggi Luca
(STMicroelectron. SRL, Agrate, Italy)
資料名:
Journal of Lightwave Technology
(Journal of Lightwave Technology)
巻:
34
号:
2
ページ:
286-295
発行年:
2016年
JST資料番号:
H0922A
ISSN:
0733-8724
CODEN:
JLTEDG
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)