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文献
J-GLOBAL ID：201602261738880269
整理番号：16A1305882
多層化グラフェン被覆β-Si3N4種を用いたc軸配向Si3N4セラミックの製造およびそれの革新的低磁場における配向
Fabrication of c-axis oriented Si3N4 ceramics using multilayered-graphene-coated β-Si3N4 seeds and their orientation in an innovative low magnetic field
Takahashi Takuma
(Kanagawa Academy of Science and Technology, KSP, 3-2-1 Sakado, Takatsu-ku, Kawasaki, Kanagawa 213-0012, Japan)
,
Sado Mariko
(Yokohama National University, 79-7, Tokiwadai, Hodogaya-ku, Yokohama, Kanagawa 240-8501, Japan)
,
Sugimoto Nanako
(Yokohama National University, 79-7, Tokiwadai, Hodogaya-ku, Yokohama, Kanagawa 240-8501, Japan)
,
Tatami Junichi
(Yokohama National University, 79-7, Tokiwadai, Hodogaya-ku, Yokohama, Kanagawa 240-8501, Japan)
,
Iijima Motoyuki
(Yokohama National University, 79-7, Tokiwadai, Hodogaya-ku, Yokohama, Kanagawa 240-8501, Japan)
,
Inagaki Satoshi
(Yokohama National University, 79-7, Tokiwadai, Hodogaya-ku, Yokohama, Kanagawa 240-8501, Japan)
,
Kubota Yoshihiro
(Yokohama National University, 79-7, Tokiwadai, Hodogaya-ku, Yokohama, Kanagawa 240-8501, Japan)
,
Yamamoto Isao
(Yokohama National University, 79-7, Tokiwadai, Hodogaya-ku, Yokohama, Kanagawa 240-8501, Japan)
,
Tanaka Satoshi
(Nagaoka University of Technology, 1603-1 Kamitomioka Nagaoka, Niigata 940-2188, Japan)
資料名：
Advanced Powder Technology
(Advanced Powder Technology)
巻： 27 号： 5 ページ： 2005-2011 発行年： 2016年09月
JST資料番号： W0255A ISSN： 0921-8831 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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