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文献
J-GLOBAL ID:201602263661176263   整理番号:16A0568057

マイクロウェーブ励起プラズマ強化型化学蒸着法で積層されたダイヤモンドライクカーボン薄膜のトライボロジー特性に及ぼす基板バイアスの影響

Effects of Substrate Bias on Tribological Properties of Diamondlike Carbon Thin Films Deposited Via Microwave-Excited Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition
著者 (4件):
KHUN Nay Win
(Nanyang Technological Univ., Singapore, SGP)
NEVILLE Anne
(Univ. Leeds, Leeds, GBR)
KOLEV Ivan
(IHI Hauzer Techno Coating, Venlo, NLD)
ZHAO Hongyuan
(Univ. Leeds, Leeds, GBR)

資料名:
Journal of Tribology  (Journal of Tribology)

巻: 138  号:ページ: 031301.1-031301.6  発行年: 2016年07月 
JST資料番号: B0901A  ISSN: 0742-4787  CODEN: JOTRE9  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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