文献
J-GLOBAL ID:201602264318662180
整理番号:16A0584581
同時応用特集壁コーティングと2周波数加熱によるE CRイオン源における高電荷状態イオンの産生増強【Powered by NICT】
Enhanced Production of High-Charge-State Ions in ECRIS by Simultaneously Applied Special Wall Coating and Two-Frequency Heating
著者 (3件):
Schachter L.
(Nat. Inst. for Phys. & Nucl. Eng., Bucharest, Romania)
,
Stiebing K. E.
(Inst. fur Kernphys. der Johann Wolfgang, Goethe Univ., Frankfurt, Germany)
,
Dobrescu S.
(Nat. Inst. for Phys. & Nucl. Eng., Bucharest, Romania)
資料名:
IEEE Transactions on Plasma Science
(IEEE Transactions on Plasma Science)
巻:
44
号:
4
ページ:
582-586
発行年:
2016年
JST資料番号:
D0036B
ISSN:
0093-3813
CODEN:
ITPSBD
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)