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文献
J-GLOBAL ID：201602266974667405
整理番号：16A1108437
10nmテクノロジーノード以降のパターンマッチングによる自己整合型ダブルパターニング(SADP)対応レイアウト設計の最適化
Optimization of Self-Aligned Double Patterning (SADP)-compliant layout designs using pattern matching for 10nm technology nodes and beyond
WANG Lynn T.-N.
(GLOBALFOUNDRIES, CA, USA)
,
SCHROEDER Uwe Paul
(GLOBALFOUNDRIES, CA, USA)
,
WOO Youngtag
(GLOBALFOUNDRIES, CA, USA)
,
ZENG Jia
(GLOBALFOUNDRIES, CA, USA)
,
MADHAVAN Sriram
(GLOBALFOUNDRIES, CA, USA)
,
CAPODIECI Luigi
(GLOBALFOUNDRIES, CA, USA)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 9781 ページ： 97810B.1-97810B.9 発行年： 2016年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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