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文献
J-GLOBAL ID：201602269816129265
整理番号：16A0919257
歪分布を有する台形SiナノワイヤのX線回折曲線の分析
Analysis of X-ray diffraction curves of trapezoidal Si nanowires with a strain distribution
Takeuchi Teruaki
(Research organization for Nano & Life innovation, Waseda University, 120-5, 513 Wasedatsurumaki-cho, Shinjuku-ku, Tokyo 162-0041, Japan)
,
Tatsumura Kosuke
(Faculty of Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku-ku, Tokyo 169-8555, Japan)
,
Shimura Takayoshi
(Graduate School of Engineering, Osaka University, 2-1 Yamadaoka, Suita-shi, Osaka 565-0871, Japan)
,
Ohdomari Iwao
(Faculty of Science and Engineering, Waseda University, 3-4-1 Ohkubo, Shinjuku-ku, Tokyo 169-8555, Japan)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 612 ページ： 116-121 発行年： 2016年08月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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