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文献
J-GLOBAL ID：201602270625959343
整理番号：16A0865365
LiドープNiO薄膜の構造,電気,光学的性質に与えるアニーリング条件の効果
Effect of annealing conditions on the structural, electrical and optical properties of Li-doped NiO thin films
Chu Xianwei
(State Key Laboratory on Integrated Optoelectronics, College of Electronic Science and Engineering, Jilin University, Changchun, People’s Republic of China)
,
Leng Jiyan
(Norman Bethune University of Medical Sciences, Jilin University, Changchun, People’s Republic of China)
,
Liu Jia
(Norman Bethune University of Medical Sciences, Jilin University, Changchun, People’s Republic of China)
,
Shi Zhifeng
(Department of Physics and Laboratory of Material Physics, Zhengzhou University, Zhengzhou, People’s Republic of China)
,
Li Wancheng
(State Key Laboratory on Integrated Optoelectronics, College of Electronic Science and Engineering, Jilin University, Changchun, People’s Republic of China)
,
Zhuang Shiwei
(State Key Laboratory on Integrated Optoelectronics, College of Electronic Science and Engineering, Jilin University, Changchun, People’s Republic of China)
,
Yang Hang
(State Key Laboratory on Integrated Optoelectronics, College of Electronic Science and Engineering, Jilin University, Changchun, People’s Republic of China)
,
Du Guotong
(State Key Laboratory on Integrated Optoelectronics, College of Electronic Science and Engineering, Jilin University, Changchun, People’s Republic of China)
,
Yin Jingzhi
(State Key Laboratory on Integrated Optoelectronics, College of Electronic Science and Engineering, Jilin University, Changchun, People’s Republic of China)
資料名：
Journal of Materials Science. Materials in Electronics
(Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 27 号： 6 ページ： 6408-6412 発行年： 2016年06月
JST資料番号： W0003A ISSN： 0957-4522 CODEN： JMTSAS 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： ドイツ (DEU) 言語： 英語 (EN)
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