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文献
J-GLOBAL ID:201602272253049145   整理番号:16A1001088

ホットプレス及び放電プラズマ焼結タイプI包接化合物Ba8Cu4.8Si41.2の化学的及び熱電特性

Chemical and Thermoelectric Properties of Hot Pressed and Spark Plasma Sintered Type-I Clathrate Ba8Cu4.8Si41.2
著者 (5件):
Yan X.
(Institute of Solid State Physics, Vienna University of Technology, Vienna, Austria)
Populoh S.
(Laboratory for Solid State Chemistry and Catalysis, EMPA -Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Duebendorf, Switzerland)
Weidenkaff A.
(Laboratory for Solid State Chemistry and Catalysis, EMPA -Swiss Federal Laboratories for Materials Science and Technology, Duebendorf, Switzerland)
Rogl P.
(Institute of Physical Chemistry, Vienna University, Vienna, Austria)
Paschen S.
(Institute of Solid State Physics, Vienna University of Technology, Vienna, Austria)

資料名:
Journal of Electronic Materials  (Journal of Electronic Materials)

巻: 45  号:ページ: 1840-1845  発行年: 2016年03月 
JST資料番号: D0277B  ISSN: 0361-5235  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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