文献
J-GLOBAL ID:201602273001581759
整理番号:16A0768851
量子Hall抵抗標準のための化学蒸着グラフェンの改善【Powered by NICT】
Improvement of chemical vapor deposition graphene for quantum Hall resistance standards
著者 (7件):
Wang Xueshen
(National Institute of Metrology (NIM), China)
,
Li Jinjin
(National Institute of Metrology (NIM), China)
,
Zhong Qing
(National Institute of Metrology (NIM), China)
,
Zhong Yuan
(National Institute of Metrology (NIM), China)
,
Fu Kai
(National Institute of Metrology (NIM), China)
,
Zhou Zhiqiang
(National Institute of Metrology (NIM), China)
,
Wang Zezhang
(National Institute of Metrology (NIM), China)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2016
号:
CPEM 2016
ページ:
1-2
発行年:
2016年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)