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文献
J-GLOBAL ID:201602280663498661   整理番号:16A0993809

同時セレン化/硫化によるCu(In,Ga)Se2薄膜のバンドギャップの調整

Tuning the band gap of Cu(In,Ga)Se2 thin films by simultaneous selenization/sulfurization
著者 (7件):
Huang Yongliang
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, Chinese Academy of Sciences, 235 Chengbei Rd., Jiading, Shanghai 201800, PR China)
Huang Yongliang
(University of Chinese Academy of Sciences, 19A Yuquanlu, Beijing 100049, PR China)
Han Anjun
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, Chinese Academy of Sciences, 235 Chengbei Rd., Jiading, Shanghai 201800, PR China)
Wang Xian
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, Chinese Academy of Sciences, 235 Chengbei Rd., Jiading, Shanghai 201800, PR China)
Liu Xiaohui
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, Chinese Academy of Sciences, 235 Chengbei Rd., Jiading, Shanghai 201800, PR China)
Liu Zhengxin
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, Chinese Academy of Sciences, 235 Chengbei Rd., Jiading, Shanghai 201800, PR China)
Meng Fanying
(Shanghai Institute of Microsystem and Information Technology, Chinese Academy of Sciences, 235 Chengbei Rd., Jiading, Shanghai 201800, PR China)

資料名:
Materials Letters  (Materials Letters)

巻: 182  ページ: 114-117  発行年: 2016年11月01日 
JST資料番号: E0935A  ISSN: 0167-577X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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