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文献
J-GLOBAL ID：201602281385700252
整理番号：16A1108344
配位ラインエピタキシー(COOL)プロセスを用いたDSAパターンの検証のための先進的なCD-SEM計測
Advanced CD-SEM metrology for qualification of DSA patterns using coordinated line epitaxy (COOL) process
KATO Takeshi
(Hitachi High-Technol. Corp., Tokyo, JPN)
,
KONISHI Junko
(Hitachi High-Technol. Corp., Ibaraki, JPN)
,
IKOTA Masami
(Hitachi High-Technol. Corp., Ibaraki, JPN)
,
YAMAGUCHI Satoru
(Hitachi High-Technol. Corp., Ibaraki, JPN)
,
SEINO Yuriko
(EUVL Infrastructure Dev. Center, Inc., Ibaraki, JPN)
,
SATO Hironobu
(EUVL Infrastructure Dev. Center, Inc., Ibaraki, JPN)
,
KASAHARA Yusuke
(EUVL Infrastructure Dev. Center, Inc., Ibaraki, JPN)
,
AZUMA Tsukasa
(EUVL Infrastructure Dev. Center, Inc., Ibaraki, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 9778 号： Pt.1 ページ： 977816.1-977816.9 発行年： 2016年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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