文献
J-GLOBAL ID:201602287803430844
整理番号:16A1174678
フォノンの平均自由行程スペクトルによって説明されるSiおよびSiGeフォノニック結晶中の熱伝導
Thermal conduction in Si and SiGe phononic crystals explained by phonon mean free path spectrum
著者 (5件):
Nomura Masahiro
(Institute of Industrial Science, The University of Tokyo, Tokyo 153-8505, Japan)
,
Nakagawa Junki
(Institute of Industrial Science, The University of Tokyo, Tokyo 153-8505, Japan)
,
Sawano Kentarou
(Advanced Research Laboratories, Tokyo City University, Tokyo 158-0082, Japan)
,
Maire Jeremie
(Institute of Industrial Science, The University of Tokyo, Tokyo 153-8505, Japan)
,
Volz Sebastian
(Institute of Industrial Science, The University of Tokyo, Tokyo 153-8505, Japan)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
109
号:
17
ページ:
173104-173104-4
発行年:
2016年10月24日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)