文献
J-GLOBAL ID:201602289932515249
整理番号:16A0628535
超紫外線/オゾン処理したポリ(ジメチルシロキサン)の溶液浸漬による粒子離散配列の自発的形成
Spontaneous formation of discrete arrangement of particles by dipping ultraviolet/ozone-treated poly(dimethylsiloxane) substrate in solution
著者 (2件):
Watanabe Masashi
(Faculty of Textile Science and Tihnology, Shinshu University, 3-15-1 Tokida, Ueda, Nagano, 386-8567, Japan)
,
Nishino Toshihiro
(Faculty of Textile Science and Tihnology, Shinshu University, 3-15-1 Tokida, Ueda, Nagano, 386-8567, Japan)
資料名:
Journal of Applied Polymer Science
(Journal of Applied Polymer Science)
巻:
133
号:
23
ページ:
ROMBUNNO.43506
発行年:
2016年06月15日
JST資料番号:
C0467A
ISSN:
0021-8995
CODEN:
JAPNAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)