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文献
J-GLOBAL ID：201602295642549700
整理番号：16A0713201
Si(111)上に成長したAlN膜の特性
Properties of AlN film grown on Si (111)
Dai Yiquan
(Mechanical Science & Engineering, Huazhong University of Science & Technology, Wuhan 430074, China)
,
Li Shuiming
(Mechanical Science & Engineering, Huazhong University of Science & Technology, Wuhan 430074, China)
,
Li Shuiming
(Key Laboratory of Nanodevices and Applications, Chinese Academy of Sciences (CAS), Suzhou 215123, China)
,
Li Shuiming
(Suzhou Institute of Nano-Tech and Nano-Bionics (SINANO), Chinese Academy of Sciences (CAS), Suzhou 215123, China)
,
Sun Qian
(Key Laboratory of Nanodevices and Applications, Chinese Academy of Sciences (CAS), Suzhou 215123, China)
,
Sun Qian
(Suzhou Institute of Nano-Tech and Nano-Bionics (SINANO), Chinese Academy of Sciences (CAS), Suzhou 215123, China)
,
Peng Qing
(School of Power and Mechanical Engineering, Wuhan University, Wuhan, Hubei 430072, China)
,
Peng Qing
(Department of Mechanical, Aerospace and Nuclear Engineering, Rensselaer Polytechnic Institute, Troy, NY 12180, USA)
,
Gui Chengqun
(School of Power and Mechanical Engineering, Wuhan University, Wuhan, Hubei 430072, China)
,
Zhou Yu
(Key Laboratory of Nanodevices and Applications, Chinese Academy of Sciences (CAS), Suzhou 215123, China)
,
Zhou Yu
(Suzhou Institute of Nano-Tech and Nano-Bionics (SINANO), Chinese Academy of Sciences (CAS), Suzhou 215123, China)
,
Liu Sheng
(School of Power and Mechanical Engineering, Wuhan University, Wuhan, Hubei 430072, China)
資料名：
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻： 435 ページ： 76-83 発行年： 2016年02月01日
JST資料番号： B0942A ISSN： 0022-0248 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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