文献
J-GLOBAL ID:201602298793212793
整理番号:16A0451274
オキシ水酸化ニッケル/パラジウム薄膜(NiOOH/Pd)の製作とガスクロミック特性
Fabrication of Nickel Oxyhydroxide/Palladium (NiOOH/Pd) Thin Film for Gasochromic Application
著者 (3件):
HU Chih-Wei
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST))
,
YAMADA Yasusei
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST))
,
YOSHIMURA Kazuki
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST))
資料名:
電気化学会大会講演要旨集(CD-ROM)
巻:
83rd
ページ:
ROMBUNNO.1O31
発行年:
2016年03月23日
JST資料番号:
Y0048B
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)