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文献
J-GLOBAL ID：201702210382477119
整理番号：17A0207356
Ni(111)上のエピタキシャルグラフェン被覆層の偏析成長【Powered by NICT】
Segregation growth of epitaxial graphene overlayers on Ni(111)
Yang Yang
(iChEM, Dalian Institute of Chemical Physics, Chinese Academy of Sciences)
,
Fu Qiang
(iChEM, Dalian Institute of Chemical Physics, Chinese Academy of Sciences)
,
Wei Wei
(iChEM, Dalian Institute of Chemical Physics, Chinese Academy of Sciences)
,
Bao Xinhe
(iChEM, Dalian Institute of Chemical Physics, Chinese Academy of Sciences)
資料名：
Kexue Tongbao
(Kexue Tongbao)
巻： 61 号： 19 ページ： 1536-1542,1470 発行年： 2016年
JST資料番号： C2862A ISSN： 2095-9273 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 中国 (CHN) 言語： 英語 (EN)
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