文献
J-GLOBAL ID:201702210562054118
整理番号:17A0142371
ポリジメチルシロキサン軟質鋳型に基づく超解像ナノリソグラフィー技術【Powered by NICT】
Superresolution nanolithography technique based on polydimethylsiloxane soft mold
著者 (4件):
He Chuanwang
(The Institute of Optics and Electronics, Chinese Academy of Sciences, Chengdu 610209, China)
,
Dong Xiaochun
(The Institute of Optics and Electronics, Chinese Academy of Sciences, Chengdu 610209, China)
,
He Chuanwang
(School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu 610054, China)
,
Wang Pinghe
(School of Optoelectronic Information, University of Electronic Science and Technology of China, Chengdu 610054, China)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2016
号:
3M-NANO
ページ:
269-272
発行年:
2016年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)