文献
J-GLOBAL ID:201702211159426710
整理番号:17A1786640
マグネトロンスパッタリングによるAlドープ窒化銅薄膜の調製に関する研究【JST・京大機械翻訳】
Study on the Al doped Cu3N films prepared by magnetron sputtering
著者 (3件):
Yuan Zuobin
(湖北民族学院 理学院,湖北 恩施,445000)
,
Zuo Anyou
(湖北民族学院 理学院,湖北 恩施,445000)
,
Li Xingao
(南京郵電大学 材料科学与工程学院,南京,210046)
資料名:
Gongneng Cailiao
(Gongneng Cailiao)
巻:
48
号:
5
ページ:
5180-5184
発行年:
2017年
JST資料番号:
C2095A
ISSN:
1001-9731
CODEN:
GOCAEA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
中国 (CHN)
言語:
中国語 (ZH)