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文献
J-GLOBAL ID：201702212683049224
整理番号：17A0335437
ナノ結晶酸化ハフニウム薄膜の構造特性に及ぼすN2中ポストデポジション焼鈍しの影響
Impact of post deposition annealing in N2 ambient on structural properties of nanocrystalline hafnium oxide thin film
PANDEY Shilpi
(CSIR, Pilani, IND)
,
PANDEY Shilpi
(Banasthali Vidyapith, Rajasthan, IND)
,
KOTHARI Prateek
(CSIR, Pilani, IND)
,
VERMA Seema
(Banasthali Vidyapith, Rajasthan, IND)
,
RANGRA K. J.
(CSIR, Pilani, IND)
資料名：
Journal of Materials Science. Materials in Electronics
(Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 28 号： 1 ページ： 760-767 発行年： 2017年01月
JST資料番号： W0003A ISSN： 0957-4522 CODEN： JMTSAS 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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