文献
J-GLOBAL ID:201702213605908487
整理番号:17A0025940
金属-絶縁体-半導体コンタクトの熱安定性関連:Ti/TiO2/n型Siコンタクトのケーススタディ
Thermal Stability Concern of Metal-Insulator-Semiconductor Contact: A Case Study of Ti/TiO2/n-Si Contact
著者 (9件):
Yu Hao
(Department of Electrical Engineering, Katholieke Universiteit Leuven, Leuven, Belgium)
,
Schaekers Marc
(, imec, Leuven, Belgium)
,
Schram Tom
(, imec, Leuven, Belgium)
,
Demuynck Steven
(, imec, Leuven, Belgium)
,
Horiguchi Naoto
(, imec, Leuven, Belgium)
,
Barla Kathy
(, imec, Leuven, Belgium)
,
Collaert Nadine
(, imec, Leuven, Belgium)
,
Thean Aaron Voon-Yew
(, imec, Leuven, Belgium)
,
De Meyer Kristin
(Department of Electrical Engineering, Katholieke Universiteit Leuven, Leuven, Belgium)
資料名:
IEEE Transactions on Electron Devices
(IEEE Transactions on Electron Devices)
巻:
63
号:
7
ページ:
2671-2676
発行年:
2016年
JST資料番号:
C0222A
ISSN:
0018-9383
CODEN:
IETDAI
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)