文献
J-GLOBAL ID:201702214037019281
整理番号:17A0388712
微小共振器型による伸縮インプリントプロセスを用いた高アスペクト比をもつ方向性ナノピラーの作製【Powered by NICT】
Fabrication of directional nanopillars with high-aspect-ratio using a stretching imprint process with a microcavity mold
著者 (9件):
Jiang Weitao
(State Key Laboratory for Manufacturing Systems Engineering, Xi’an Jiaotong University, Xi’an 710049, China. wtjiang@mail.xjtu.edu.cn hzliu@mail.xjtu.edu.cn)
,
Lei Biao
,
Liu Hongzhong
,
Niu Dong
,
Zhao Tingting
,
Chen Bangdao
,
Yin Lei
,
Shi Yongsheng
,
Liu Xiaokang
資料名:
Nanoscale
(Nanoscale)
巻:
9
号:
6
ページ:
2172-2177
発行年:
2017年
JST資料番号:
W2323A
ISSN:
2040-3364
CODEN:
NANOHL
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)