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J-GLOBAL ID:201702214209511190   整理番号:17A0539901

200mmの基板を通してのAlGaN/GaN高電子移動度トランジスタ構造の構造的,光学的および電気的特性

Investigation of structural, optical, and electrical characteristics of an AlGaN/GaN high electron mobility transistor structure across a 200 mm Si(1 1 1) substrate
著者 (10件):
PEROZEK J
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA)
PEROZEK J
(Innovative COmpound semiconductoR (ICOR) Lab., IL, USA)
LEE H-P
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA)
LEE H-P
(Innovative COmpound semiconductoR (ICOR) Lab., IL, USA)
KRISHNAN B
(Veeco Instruments Inc., NJ, USA)
PARANJPE A
(Veeco Instruments Inc., NJ, USA)
REUTER K B
(IBM Res. Div., NY, USA)
SADANA D K
(IBM Res. Div., NY, USA)
BAYRAM C
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA)
BAYRAM C
(Innovative COmpound semiconductoR (ICOR) Lab., IL, USA)

資料名:
Journal of Physics. D. Applied Physics  (Journal of Physics. D. Applied Physics)

巻: 50  号:ページ: 055103,1-8  発行年: 2017年02月08日 
JST資料番号: B0092B  ISSN: 0022-3727  CODEN: JPAPBE  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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