文献
J-GLOBAL ID:201702214209511190
整理番号:17A0539901
200mmの基板を通してのAlGaN/GaN高電子移動度トランジスタ構造の構造的,光学的および電気的特性
Investigation of structural, optical, and electrical characteristics of an AlGaN/GaN high electron mobility transistor structure across a 200 mm Si(1 1 1) substrate
著者 (10件):
PEROZEK J
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA)
,
PEROZEK J
(Innovative COmpound semiconductoR (ICOR) Lab., IL, USA)
,
LEE H-P
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA)
,
LEE H-P
(Innovative COmpound semiconductoR (ICOR) Lab., IL, USA)
,
KRISHNAN B
(Veeco Instruments Inc., NJ, USA)
,
PARANJPE A
(Veeco Instruments Inc., NJ, USA)
,
REUTER K B
(IBM Res. Div., NY, USA)
,
SADANA D K
(IBM Res. Div., NY, USA)
,
BAYRAM C
(Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA)
,
BAYRAM C
(Innovative COmpound semiconductoR (ICOR) Lab., IL, USA)
資料名:
Journal of Physics. D. Applied Physics
(Journal of Physics. D. Applied Physics)
巻:
50
号:
5
ページ:
055103,1-8
発行年:
2017年02月08日
JST資料番号:
B0092B
ISSN:
0022-3727
CODEN:
JPAPBE
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)