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文献
J-GLOBAL ID：201702214872805958
整理番号：17A0470297
高パワーインパルスマグネトロンスパッタリングプラズマ電源により成長させた窒素ドープTiO_2薄膜に及ぼす熱アニーリングの効果【Powered by NICT】
Thermal annealing effect on nitrogen-doped TiO2 thin films grown by high power impulse magnetron sputtering plasma power source
Stegemann C.
(Technological Institute of Aeronautics, Plasmas and Processes Laboratory, Sao Jose dos Campos, SP, Brazil.)
,
Moraes R.S.
(Technological Institute of Aeronautics, Plasmas and Processes Laboratory, Sao Jose dos Campos, SP, Brazil.)
,
Duarte D.A.
(Federal University of Santa Catarina, Technological Centre of Joinville, Department of Mobility Engineering, Joinville, SC, Brazil)
,
Massi M.
(Technological Institute of Aeronautics, Plasmas and Processes Laboratory, Sao Jose dos Campos, SP, Brazil.)
,
Massi M.
(Mackenzie Presbyterian University, Sao Paulo, SP, Brazil)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 625 ページ： 49-55 発行年： 2017年
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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