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文献
J-GLOBAL ID：201702214901911134
整理番号：17A0716535
架橋可能なポリシロキサン/ポリスチレンブレンドの相分離からの緻密で高アスペクト比のサブ-50nmナノピラーのウエハスケール作製
Wafer Scale Fabrication of Dense and High Aspect Ratio Sub-50 nm Nanopillars from Phase Separation of Cross-Linkable Polysiloxane/Polystyrene Blend
LI Yang
(Nanjing Univ., Nanjing, CHN)
,
LI Yang
(Collaborative Innovation Center of Advanced Microstructures, Nanjing, CHN)
,
HAO Yuli
(Nanjing Univ., Nanjing, CHN)
,
HAO Yuli
(Collaborative Innovation Center of Advanced Microstructures, Nanjing, CHN)
,
HUANG Chunyu
(Collaborative Innovation Center of Advanced Microstructures, Nanjing, CHN)
,
CHEN Xingyao
(Nanjing Univ., Nanjing, CHN)
,
CHEN Xingyao
(Collaborative Innovation Center of Advanced Microstructures, Nanjing, CHN)
,
CHEN Xinyu
(Nanjing Univ., Nanjing, CHN)
,
CHEN Xinyu
(Collaborative Innovation Center of Advanced Microstructures, Nanjing, CHN)
,
CUI Yushuang
(Nanjing Univ., Nanjing, CHN)
,
CUI Yushuang
(Collaborative Innovation Center of Advanced Microstructures, Nanjing, CHN)
,
YUAN Changsheng
(Nanjing Univ., Nanjing, CHN)
,
YUAN Changsheng
(Collaborative Innovation Center of Advanced Microstructures, Nanjing, CHN)
,
QIU Kai
(Collaborative Innovation Center of Advanced Microstructures, Nanjing, CHN)
,
GE Haixiong
(Collaborative Innovation Center of Advanced Microstructures, Nanjing, CHN)
,
CHEN Yanfeng
(Collaborative Innovation Center of Advanced Microstructures, Nanjing, CHN)
資料名：
ACS Applied Materials & Interfaces
(ACS Applied Materials & Interfaces)
巻： 9 号： 15 ページ： 13685-13693 発行年： 2017年04月19日
JST資料番号： W2329A ISSN： 1944-8244 CODEN： AAMICK 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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