前のページに戻る この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写(冊子体のコピー)をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID:201702215283841354   整理番号:17A0055439

の擬鉛直GaNベースのトレンチゲート金属酸化物半導体電界効果トランジスタ【Powered by NICT】

Pseudo-vertical GaN-based trench gate metal oxide semiconductor field effect transistor
著者 (10件):
Hentschel Rico
(Namlab gGmbH, 01187 Dresden, Germany)
Wachowiak Andre
(Namlab gGmbH, 01187 Dresden, Germany)
Groser Andreas
(Namlab gGmbH, 01187 Dresden, Germany)
Jahn Andreas
(Institute of Semiconductors and Microsystems, TU Dresden, 01187 Dresden, Germany)
Merkel Ulrich
(Institute of Semiconductors and Microsystems, TU Dresden, 01187 Dresden, Germany)
Wille Ada
(GaN Device Technology, RWTH Aachen University, 52074 Aachen, Germany)
Kalisch Holger
(GaN Device Technology, RWTH Aachen University, 52074 Aachen, Germany)
Vescan Andrei
(GaN Device Technology, RWTH Aachen University, 52074 Aachen, Germany)
Schmult Stefan
(Institute of Semiconductors and Microsystems, TU Dresden, 01187 Dresden, Germany)
Mikolajick Thomas
(Namlab gGmbH, 01187 Dresden, Germany)

資料名:
IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)

巻: 2016  号: ASDAM  ページ: 5-8  発行年: 2016年 
JST資料番号: W2441A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写(コピー)して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写(コピー)は郵送またはFAXでお送りします

※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。