文献
J-GLOBAL ID:201702215283841354
整理番号:17A0055439
の擬鉛直GaNベースのトレンチゲート金属酸化物半導体電界効果トランジスタ【Powered by NICT】
Pseudo-vertical GaN-based trench gate metal oxide semiconductor field effect transistor
著者 (10件):
Hentschel Rico
(Namlab gGmbH, 01187 Dresden, Germany)
,
Wachowiak Andre
(Namlab gGmbH, 01187 Dresden, Germany)
,
Groser Andreas
(Namlab gGmbH, 01187 Dresden, Germany)
,
Jahn Andreas
(Institute of Semiconductors and Microsystems, TU Dresden, 01187 Dresden, Germany)
,
Merkel Ulrich
(Institute of Semiconductors and Microsystems, TU Dresden, 01187 Dresden, Germany)
,
Wille Ada
(GaN Device Technology, RWTH Aachen University, 52074 Aachen, Germany)
,
Kalisch Holger
(GaN Device Technology, RWTH Aachen University, 52074 Aachen, Germany)
,
Vescan Andrei
(GaN Device Technology, RWTH Aachen University, 52074 Aachen, Germany)
,
Schmult Stefan
(Institute of Semiconductors and Microsystems, TU Dresden, 01187 Dresden, Germany)
,
Mikolajick Thomas
(Namlab gGmbH, 01187 Dresden, Germany)
資料名:
IEEE Conference Proceedings
(IEEE Conference Proceedings)
巻:
2016
号:
ASDAM
ページ:
5-8
発行年:
2016年
JST資料番号:
W2441A
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)