文献
J-GLOBAL ID:201702215494467253
整理番号:17A0447714
ポリウレタンCeO_2コア-シェル粒子を用いた単結晶SiC表面の研磨パッドフリー電気化学的機械的研磨【Powered by NICT】
Polishing-pad-free electrochemical mechanical polishing of single-crystalline SiC surfaces using polyurethane-CeO2 core-shell particles
著者 (3件):
Murata Junji
(Department of Mechanical Engineering, Kindai University, 3-4-1 Kowakae, Higashi-Osaka, Osaka 577-8502, Japan)
,
Yodogawa Koushi
(Department of Mechanical Engineering, Kindai University, 3-4-1 Kowakae, Higashi-Osaka, Osaka 577-8502, Japan)
,
Ban Kazuma
(Department of Mechanical Engineering, Kindai University, 3-4-1 Kowakae, Higashi-Osaka, Osaka 577-8502, Japan)
資料名:
International Journal of Machine Tools & Manufacture
(International Journal of Machine Tools & Manufacture)
巻:
114
ページ:
1-7
発行年:
2017年
JST資料番号:
C0568A
ISSN:
0890-6955
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)