前のページに戻る
この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写（冊子体のコピー）をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID：201702215518405997
整理番号：17A1421093
無線周波数(RF)プラズマ増強化学蒸着を用いたシリコン上のゲルマニウムの低温蒸着【Powered by NICT】
Low temperature deposition of germanium on silicon using Radio Frequency Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
Dushaq Ghada
(Department of Electrical Engineering and Computer Science, iMicro Center, MASDAR Institute, Building A1, PO Box 54224, Masdar City, Abu Dhabi, United Arab Emirates)
,
Rasras Mahmoud
(Department of Electrical Engineering and Computer Science, iMicro Center, MASDAR Institute, Building A1, PO Box 54224, Masdar City, Abu Dhabi, United Arab Emirates)
,
Nayfeh Ammar
(Department of Electrical Engineering and Computer Science, iMicro Center, MASDAR Institute, Building A1, PO Box 54224, Masdar City, Abu Dhabi, United Arab Emirates)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 636 ページ： 585-592 発行年： 2017年
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写（コピー）して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写（コピー）は郵送またはFAXでお送りします
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。