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文献
J-GLOBAL ID:201702216047675408   整理番号:17A1007033

プラズマ重合SiO:CH粒子の析出に及ぼす基質材料の影響

Influence of Substrate Materials on Deposition of Plasma-polymerized SiO:CH Particles
著者 (4件):
Inoue Yasushi
(Department of Advanced Materials Science and Engineering, Chiba Institute of Technology)
Koike Haruka
(Department of Advanced Materials Science and Engineering, Chiba Institute of Technology)
Aihara Takumi
(Department of Advanced Materials Science and Engineering, Chiba Institute of Technology)
Takai Osamu
(Materials and Surface Engineering Research Institute, Kanto Gakuin University)

資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology  (Journal of Photopolymer Science and Technology)

巻: 30  号:ページ: 337-340(J-STAGE)  発行年: 2017年 
JST資料番号: L0202A  ISSN: 0914-9244  CODEN: JSTEEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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