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文献
J-GLOBAL ID：201702216047675408
整理番号：17A1007033
プラズマ重合SiO:CH粒子の析出に及ぼす基質材料の影響
Influence of Substrate Materials on Deposition of Plasma-polymerized SiO:CH Particles
Inoue Yasushi
(Department of Advanced Materials Science and Engineering, Chiba Institute of Technology)
,
Koike Haruka
(Department of Advanced Materials Science and Engineering, Chiba Institute of Technology)
,
Aihara Takumi
(Department of Advanced Materials Science and Engineering, Chiba Institute of Technology)
,
Takai Osamu
(Materials and Surface Engineering Research Institute, Kanto Gakuin University)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 30 号： 3 ページ： 337-340(J-STAGE) 発行年： 2017年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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