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文献
J-GLOBAL ID：201702216128352657
整理番号：17A1181867
Ni(110)上の初期表面シリサイド化【Powered by NICT】
Initial surface silicidation on Ni(110)
Fukuda T.
(Department of Physical Electronics and Informatics, Graduate School of Engineering, Osaka City University, Osaka 558-8585, Japan)
,
Kishida I.
(Department of Mechanical and Physical Engineering, Graduate School of Engineering, Osaka City University, Osaka 558-8585, Japan)
,
Umezawa K.
(Faculty of Liberal Arts and Sciences, Osaka Prefecture University, Sakai 599-8531, Japan)
資料名：
Surface Science
(Surface Science)
巻： 659 ページ： 1-4 発行年： 2017年
JST資料番号： C0129B ISSN： 0039-6028 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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