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文献
J-GLOBAL ID：201702216141166959
整理番号：17A0695874
力モードのディップペンナノリソグラフィーにおける力変動
Force Drift in Force Mode Dip-Pen Nanolithography
YANG Haijun
(Shanghai Inst. Applied Physics, CAS, Shanghai, CHN)
,
ZHANG Chen
(Shanghai Inst. Applied Physics, CAS, Shanghai, CHN)
,
ZHANG Jinjin
(Shanghai Inst. Applied Physics, CAS, Shanghai, CHN)
,
ZHANG Donghua
(Shanghai Inst. Applied Physics, CAS, Shanghai, CHN)
,
HU Jun
(Shanghai Inst. Applied Physics, CAS, Shanghai, CHN)
,
HAN Zhongkang
(Shanghai Inst. Applied Physics, CAS, Shanghai, CHN)
,
WANG Huabin
(Chongqing Inst. Green and Intelligent Technol., Chinese Acad. Sci., Chongqing, CHN)
,
WANG Huabin
(Univ. Melbourne, VIC, AUS)
,
HOU Zhengchi
(Shanghai Inst. Applied Physics, CAS, Shanghai, CHN)
資料名：
Journal of Nanoscience and Nanotechnology
(Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 16 号： 7 ページ： 7030-7036 発行年： 2016年07月
JST資料番号： W1351A ISSN： 1533-4880 CODEN： JNNOAR 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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