文献
J-GLOBAL ID:201702216261257286
整理番号:17A0502823
ホウ素およびガリウム共ドープZnO膜の特性の基板温度および厚み依存性
Substrate temperature and thickness dependence of properties of boron and gallium co-doped ZnO films
著者 (9件):
YANG J.
(Shanghai Univ., Shanghai, CHN)
,
HUANG J.
(Shanghai Univ., Shanghai, CHN)
,
LU Y. X.
(Shanghai Univ., Shanghai, CHN)
,
JI H. H.
(Shanghai Univ., Shanghai, CHN)
,
ZHANG L.
(Shanghai Univ., Shanghai, CHN)
,
TANG K.
(Shanghai Univ., Shanghai, CHN)
,
CAO M.
(Shanghai Univ., Shanghai, CHN)
,
HU Y.
(Shanghai Univ., Shanghai, CHN)
,
WANG L. J.
(Shanghai Univ., Shanghai, CHN)
資料名:
Surface Engineering
(Surface Engineering)
巻:
33
号:
3/4
ページ:
270-275
発行年:
2017年04月
JST資料番号:
A0614C
ISSN:
0267-0844
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)