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文献
J-GLOBAL ID:201702216266758575   整理番号:17A0933002

UV/オゾン処理によるニッケル酸化物(NiOx)の電子特性変化の研究

Investigation of the Changes in Electronic Properties of Nickel Oxide (NiOx) Due to UV/Ozone Treatment
著者 (10件):
ISLAM Raisul
(Stanford Univ., California, USA)
CHEN Gang
(Colorado School of Mines, Colorado, USA)
RAMESH Pranav
(Stanford Univ., California, USA)
SUH Junkyo
(Stanford Univ., California, USA)
FUCHIGAMI Nobi
(Intermolecular Inc., California, USA)
LEE Donovan
(Intermolecular Inc., California, USA)
LITTAU Karl A.
(Intermolecular Inc., California, USA)
WEINER Kurt
(Intermolecular Inc., California, USA)
COLLINS Reuben T.
(Colorado School of Mines, Colorado, USA)
SARASWAT Krishna C.
(Stanford Univ., California, USA)

資料名:
ACS Applied Materials & Interfaces  (ACS Applied Materials & Interfaces)

巻:号: 20  ページ: 17201-17207  発行年: 2017年05月24日 
JST資料番号: W2329A  ISSN: 1944-8244  CODEN: AAMICK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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