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文献
J-GLOBAL ID：201702216555453098
整理番号：17A0362733
アリストロキア酸Iの選択的除去のためのRAFT沈殿重合を介した分子刷り込み高分子の調製と吸着特性【Powered by NICT】
Preparation and adsorption properties of molecularly imprinted polymer via RAFT precipitation polymerization for selective removal of aristolochic acid I
Xiao Yonghua
(School of Chemical Engineering, Xiangtan University, Xiangtan 411105, China)
,
Xiao Rong
(School of Chemical Engineering, Xiangtan University, Xiangtan 411105, China)
,
Tang Jian
(School of Chemical Engineering, Xiangtan University, Xiangtan 411105, China)
,
Zhu Qiankun
(School of Chemical Engineering, Xiangtan University, Xiangtan 411105, China)
,
Li Xiaoming
(School of Chemical Engineering, Xiangtan University, Xiangtan 411105, China)
,
Xiong Yan
(School of Chemical Engineering, Xiangtan University, Xiangtan 411105, China)
,
Wu Xuewen
(School of Chemical Engineering, Xiangtan University, Xiangtan 411105, China)
資料名：
Talanta
(Talanta)
巻： 162 ページ： 415-422 発行年： 2017年
JST資料番号： E0324A ISSN： 0039-9140 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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