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文献
J-GLOBAL ID：201702217416164993
整理番号：17A1054479
多結晶テルル化物薄膜の特性に及ぼすガリウムドーピングの影響
Effect of Gallium Doping on the Characteristic Properties of Polycrystalline Cadmium Telluride Thin Film
OJO A.A.
(Sheffield Hallam Univ., Sheffield, GBR)
,
DHARMADASA I.M.
(Sheffield Hallam Univ., Sheffield, GBR)
資料名：
Journal of Electronic Materials
(Journal of Electronic Materials)
巻： 46 号： 8 ページ： 5127-5135 発行年： 2017年08月
JST資料番号： D0277B ISSN： 0361-5235 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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