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文献
J-GLOBAL ID：201702217425149582
整理番号：17A0993073
金属Cd源を用いたCdTeの気相エピタクシーの熱力学的解析【Powered by NICT】
Thermodynamic analysis of vapor-phase epitaxy of CdTe using a metallic Cd source
Iso Kenji
(Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Tokyo University of Agriculture and Technology, Koganei, Tokyo 184-8588, Japan)
,
Iso Kenji
(R&TD Center, Tsukuba Plant, LED Materials Department, Mitsubishi Chemical Corporation, Ushiku, Ibaraki 300-1295, Japan)
,
Murakami Hisashi
(Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Tokyo University of Agriculture and Technology, Koganei, Tokyo 184-8588, Japan)
,
Koukitu Akinori
(Department of Applied Chemistry, Graduate School of Engineering, Tokyo University of Agriculture and Technology, Koganei, Tokyo 184-8588, Japan)
資料名：
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻： 470 ページ： 122-127 発行年： 2017年
JST資料番号： B0942A ISSN： 0022-0248 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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