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文献
J-GLOBAL ID：201702217636018252
整理番号：17A0869518
スパッタ法によるNb2O5/SiO2多層積層膜の,塩素エッチマスクを利用した一段の誘導結合プラズマエッチング
Single-step inductively coupled plasma etching of sputtered Nb2O5/SiO2 multilayer stacks using chromium etch mask
Taimoor Muhammad
(Institute of Nanostructure Technologies and Analytics/CINSaT, University of Kassel, Heinrich-Plett-Str. 40, 34132 Kassel, Germany)
,
Alatawi Abdullah
(Institute of Nanostructure Technologies and Analytics/CINSaT, University of Kassel, Heinrich-Plett-Str. 40, 34132 Kassel, Germany)
,
Reuter Sabrina
(Institute of Nanostructure Technologies and Analytics/CINSaT, University of Kassel, Heinrich-Plett-Str. 40, 34132 Kassel, Germany)
,
Hillmer Hartmut
(Institute of Nanostructure Technologies and Analytics/CINSaT, University of Kassel, Heinrich-Plett-Str. 40, 34132 Kassel, Germany)
,
Kusserow Thomas
(Institute of Nanostructure Technologies and Analytics/CINSaT, University of Kassel, Heinrich-Plett-Str. 40, 34132 Kassel, Germany)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 35 号： 4 ページ： 041302-041302-5 発行年： 2017年07月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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