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J-GLOBAL ID：201702217668275432 整理番号：17A0704001

スパッタしたYSZ/Si膜の結晶粒成長と集合組織発達に及ぼす原位置応力の影響【Powered by NICT】

Effect of in situ stress on grain growth and texture evolution in sputtered YSZ/Si films

著者 (3件)：

Banerjee Amiya

(Centre for Nano Science and Engineering, Indian Institute of Science, India. amiya.matsci@gmail.com)

Narayanachari K. V. L. V.

Raghavan Srinivasan

資料名：

RSC Advances (Web) (RSC Advances (Web))

巻： 7 号： 29 ページ： 17832-17840 発行年： 2017年
JST資料番号： U7055A ISSN： 2046-2069 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：イギリス (GBR) 言語：英語 (EN)

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