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文献
J-GLOBAL ID：201702217676273375
整理番号：17A1545211
イオンビームスパッタNiの熱アニーリングによる酸化ニッケル膜:構造と電気光学的性質【Powered by NICT】
Nickel oxide films by thermal annealing of ion-beam-sputtered Ni: Structure and electro-optical properties
Horak P.
(Nuclear Physics Institute, Academy of Sciences of the Czech Republic, 250 68 Rez, Czech Republic)
,
Remes Z.
(Institute of Physics, Academy of Sciences of the Czech Republic, Cukrovarnicka 10/112, 162 00 Prague, Czech Republic)
,
Bejsovec V.
(Nuclear Physics Institute, Academy of Sciences of the Czech Republic, 250 68 Rez, Czech Republic)
,
Vacik J.
(Nuclear Physics Institute, Academy of Sciences of the Czech Republic, 250 68 Rez, Czech Republic)
,
Danis S.
(Department of Condensed Matter Physics, Faculty of Mathematics and Physics, Charles University in Prague, Ke Karlovu 5, 121 16 Prague, Czech Republic)
,
Kormunda M.
(Department of Physics, Jan Evangelista Purkyne University in Usti nad Labem, Ceske mladeze 8, 400 96 Usti nad Labem, Czech Republic)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 640 ページ： 52-59 発行年： 2017年
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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