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文献
J-GLOBAL ID：201702217903470328
整理番号：17A1764172
均一な円形ターゲット利用のための回転十字型磁化高周波スパッタリングプラズマ源
Rotational cross-shaped magnetized radio-frequency sputtering plasma source for uniform circular target utilization
Ide Tsubasa
(Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Science and Engineering, Saga University, 1 Honjo-machi, Saga 840-8502, Japan)
,
Hossain Md. Amzad
(Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Science and Engineering, Saga University, 1 Honjo-machi, Saga 840-8502, Japan and Department of Electrical and Electronic Engineering, Jessore University of Science and Technology, Jessore 7408, Bangladesh)
,
Nakamura Yutaro
(Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Science and Engineering, Saga University, 1 Honjo-machi, Saga 840-8502, Japan)
,
Ohtsu Yasunori
(Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Science and Engineering, Saga University, 1 Honjo-machi, Saga 840-8502, Japan)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 35 号： 6 ページ： 061312-061312-6 発行年： 2017年11月
JST資料番号： C0789B ISSN： 0734-2101 CODEN： JVTAD6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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