文献
J-GLOBAL ID:201702218200111321
整理番号:17A1112959
Nd2O3/Si系の構造的及び電気的性質に及ぼす熱酸化時間の効果
Effects of thermal oxidation duration on the structural and electrical properties of Nd2O3/Si system
著者 (3件):
HETHERIN Karuppiah
(Univ. Malaya, Kuala Lumpur, MYS)
,
RAMESH S.
(Univ. Malaya, Kuala Lumpur, MYS)
,
WONG Yew Hoong
(Univ. Malaya, Kuala Lumpur, MYS)
資料名:
Applied Physics. A. Materials Science & Processing
(Applied Physics. A. Materials Science & Processing)
巻:
123
号:
8
ページ:
510,1-11
発行年:
2017年08月
JST資料番号:
D0256C
ISSN:
0947-8396
CODEN:
APHYCC
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)