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J-GLOBAL ID:201702218242580568   整理番号:17A1092049

分子水素曝露により作製した水素化ステップのあるSi(111)表面の和周波数発生分光法による研究【Powered by NICT】

Sum frequency generation spectroscopy study of hydrogenated stepped Si(111) surfaces made by molecular hydrogen exposure
著者 (5件):
Hien K.T.T.
(School of Materials Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology, 1-1 Asahidai, Nomi, Ishikawa 923-1292, Japan)
Sattar M.A.
(School of Materials Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology, 1-1 Asahidai, Nomi, Ishikawa 923-1292, Japan)
Miyauchi Y.
(Department of Physics, National Academy of Japan, Hashirimizu 1-10-20, Yokosuka, Kanagawa 239-8686, Japan)
Mizutani G.
(School of Materials Science, Japan Advanced Institute of Science and Technology, 1-1 Asahidai, Nomi, Ishikawa 923-1292, Japan)
Rutt H.N.
(School of Electronics and Computer Science, University of Southampton, Southampton SO17 1BJ, U.K)

資料名:
Surface Science  (Surface Science)

巻: 663  ページ: 11-15  発行年: 2017年 
JST資料番号: C0129B  ISSN: 0039-6028  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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