文献
J-GLOBAL ID:201702218328050638
整理番号:17A0445109
酸化インジウム亜鉛に及ぼすHfO_2薄膜のパルスレーザ蒸着:バンドオフセット測定【Powered by NICT】
Pulsed laser deposition of HfO2 thin films on indium zinc oxide: Band offsets measurements
著者 (2件):
Craciun D.
(National Institute for Laser, Plasma and Radiation Physics, Magurele, Romania)
,
Craciun V.
(National Institute for Laser, Plasma and Radiation Physics, Magurele, Romania)
資料名:
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻:
400
ページ:
77-80
発行年:
2017年
JST資料番号:
B0707B
ISSN:
0169-4332
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)