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文献
J-GLOBAL ID：201702218449809395
整理番号：17A1501784
Ge-Sn(GeSn)のプラズマ酸化の速度論【Powered by NICT】
Kinetics of plasma oxidation of germanium-tin (GeSn)
Wang Wei
(Department of Electrical and Computer Engineering, National University of Singapore, 117576, Singapore)
,
Lei Dian
(Department of Electrical and Computer Engineering, National University of Singapore, 117576, Singapore)
,
Dong Yuan
(Department of Electrical and Computer Engineering, National University of Singapore, 117576, Singapore)
,
Zhang Zheng
(Institute of Material Research and Engineering, A*STAR (Agency for Science, Technology and Research), 2 Fusionopolis Way, #08-03, Innovis, 138634, Singapore)
,
Pan Jisheng
(Institute of Material Research and Engineering, A*STAR (Agency for Science, Technology and Research), 2 Fusionopolis Way, #08-03, Innovis, 138634, Singapore)
,
Gong Xiao
(Department of Electrical and Computer Engineering, National University of Singapore, 117576, Singapore)
,
Tok Eng-Soon
(Department of Physics, National University of Singapore, 117551, Singapore)
,
Yeo Yee-Chia
(Department of Electrical and Computer Engineering, National University of Singapore, 117576, Singapore)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 425 ページ： 95-99 発行年： 2017年
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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